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摘要(系统识别):
电子厂房高纯气体工艺与施工工程
前言
◆近10年来,随着更复杂、更密集的大规模和超大规模集成电路的生产,
高纯气体洁净度的要求,已不亚于对纯度和干燥度的要求,凡工艺气体,
无一不对其中的粒子提出限制。因此,对于高纯气体,纯度、干燥度、洁
净度是三项重要的标度。由于高纯度气体的使用地点、性质、工况(如温
度、压力等)都不完全一致,所以,如何确定高纯气体的“三度”(
纯度、
干燥度、洁净度),还没有一个严格而明确的概念。
对于纯度和干燥度的控制,我国CBJ73一84《洁净厂房设计规范》中指
出,“高纯气体系指纯度大于或等于99.9995%,含水量小于5ppm气体。
日本把微电子生产中所采用的气体,按其不同的品位,具体分为下列几个
不同的档次:
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